Berita

Adalah sangat penting untuk mengkaji teknologi pensinteran suhu rendah seramik alumina, sama ada untuk mengurangkan penggunaan tenaga, menjimatkan kos, atau meningkatkan prestasi.

Bahan seramik yang digunakan untuk pembuatan komponen tekstil diperlukan mempunyai kekerasan yang tinggi, kekuatan tinggi, dan rintangan kakisan yang sangat baik. Bahan seramik yang biasa digunakan untuk fabrikasi komponen tekstil boleh dikategorikan kepada empat jenis utama: seramik alumina, seramik titania, seramik zirkonia dan seramik alumina yang dikeraskan zirkonia.

Semasa penyediaan substrat seramik DPC, pengagihan arus penyaduran yang tidak sekata membawa kepada ketebalan lapisan kuprum yang tidak seragam pada permukaan substrat (perbezaan ketebalan boleh melebihi 100μm). Pengisaran permukaan adalah proses utama untuk mengawal ketebalan lapisan kuprum saduran elektrik dan meningkatkan keseragamannya, secara langsung mempengaruhi prestasi substrat seramik dan kualiti pembungkusan peranti.

Pada masa ini, seramik silikon nitrida yang digunakan dalam pelbagai bidang disediakan terutamanya melalui pensinteran tindak balas, pensinteran tekanan panas, pensinteran tanpa tekanan, pensinteran tekanan gas, dan pensinteran penekan isostatik panas. Proses pensinteran yang berbeza menghasilkan seramik silikon nitrida dengan perbezaan prestasi tertentu, biasanya digunakan dalam komponen struktur suhu tinggi yang berbeza, komponen tahan haus atau komponen tahan kakisan.

Dalam industri litar semikonduktor, substrat seramik adalah salah satu bahan utama untuk papan litar. Substrat seramik biasa termasuk substrat seramik alumina, substrat seramik aluminium nitrida dan substrat seramik silikon nitrida. Substrat seramik alumina dan substrat seramik aluminium nitrida mempunyai sifat dan aplikasi yang berbeza kerana bahannya yang berbeza.

Substrat seramik memainkan peranan penting dalam bidang elektronik kerana kelebihannya yang ketara seperti kekonduksian terma yang tinggi, sifat penebat yang sangat baik, dan kekonduksian terma.