Blog

Seramik termaju boleh dikelaskan lagi kepada dua jenis berdasarkan ciri-cirinya: seramik struktur dan seramik berfungsi.

Bilah seramik zirkonia dihasilkan menggunakan zirkonia ultra-halus ketulenan tinggi sebagai bahan mentah, melalui proses seperti granulasi semburan, penekanan isostatik dan pemesinan ketepatan. Ia mempunyai kekerasan yang tinggi, rintangan kakisan yang kuat, kestabilan kimia yang baik, dan rintangan haus yang tinggi.

Dalam bidang teknologi moden, tiub seramik tahan suhu tinggi, sebagai salah satu bahan penting, mempunyai ciri unik dan mempunyai aplikasi yang meluas.

Bahan seramik memainkan peranan penting dalam industri ketenteraan moden kerana sifat uniknya seperti rintangan suhu tinggi, kekuatan tinggi, ringan, sifat penebat elektrik dan haba, dan lain-lain. Dengan kemajuan teknologi dan pembangunan teknologi bahan baharu, aplikasi skop bahan seramik dijangka terus berkembang, menyediakan penyelesaian kritikal kepada banyak cabaran yang dihadapi dunia hari ini.

Bahan seramik nitrida aluminium mempunyai prospek aplikasi yang luas dan potensi pasaran yang luas dalam pelbagai bidang seperti elektronik, kuasa elektrik, lokomotif, penerbangan dan aeroangkasa, industri pertahanan dan ketenteraan, telekomunikasi dan pelbagai sektor perindustrian. Dengan kemajuan dan inovasi berterusan dalam teknologi, seramik aluminium nitrida akan mengembangkan lagi aplikasi dan perkembangannya dalam pelbagai bidang.

Apabila pembuatan memasuki tempoh pembangunan baharu, penggunaan substrat seramik semakin meluas, dengan keperluan yang lebih tinggi untuk kekasaran permukaan dan kerataan. Perkembangan pesat teknologi penggilap laser menyediakan pendekatan baharu untuk pemprosesan penggilapan substrat seramik yang bijak dan cekap.

Semasa proses penandaan laser substrat seramik, adalah penting untuk mengawal parameter pemprosesan laser untuk mengelakkan pemanasan yang berlebihan, yang boleh menyebabkan keretakan atau ubah bentuk seramik. Penandaan laser menawarkan kelebihan seperti jahitan halus, ketepatan tinggi, kelajuan penandaan pantas, bahagian licin, zon terjejas haba kecil, dan tiada kerosakan substrat, menyediakan kaedah pemprosesan yang boleh dipercayai untuk fabrikasi substrat seramik. Memandangkan industri mikroelektronik terus berkembang ke arah pengecilan dan pemberat ringan, menuntut ketepatan yang lebih tinggi, teknologi penandaan laser memegang janji besar untuk pemprosesan substrat seramik.

Sebagai asas sokongan untuk komponen elektronik, substrat seramik memudahkan pelesapan haba dalam peranti elektronik. Selepas pembentukan awal substrat seramik, mereka memerlukan pemprosesan lanjut seperti penggerudian dan scribing. Kaedah pemesinan tradisional tidak dapat memenuhi keperluan pemesinan berketepatan tinggi substrat seramik. Dengan perkembangan teknologi pemprosesan laser, ia secara beransur-ansur menjadi arus perdana untuk pemesinan ketepatan substrat seramik.

Substrat seramik adalah bahan yang biasa digunakan untuk pembungkusan elektronik. Pada masa ini, beberapa bahan substrat seramik elektronik yang biasa digunakan termasuk alumina (Al2O3), aluminium nitrida (AlN), dan silikon nitrida (Si3N4). Oleh kerana sifat substrat seramik elektronik yang sangat baik, mereka menemui aplikasi yang meluas dalam bidang seperti elektronik, optoelektronik, telekomunikasi, aeroangkasa, antara lain.

Bahan seramik silikon karbida mempamerkan sifat yang sangat baik seperti kekuatan mekanikal suhu tinggi, kekerasan tinggi, rintangan pengoksidaan yang kuat, rintangan sinaran yang baik, rintangan haus yang sangat baik, kestabilan haba, pekali pengembangan haba yang rendah, dan rintangan kakisan kimia yang baik. Mereka menemui aplikasi yang luas dalam pelbagai bidang termasuk jentera perindustrian, pertahanan, semikonduktor, perlindungan alam sekitar, tenaga nuklear, antara lain.